Elektronstrålefordampningsmetoden er et slags vakuumfordampningsbelegg, som bruker elektronstråler til å varme opp fordampningsmaterialet direkte under vakuumforhold, fordampe fordampningsmaterialet og transportere det til underlaget og kondensere på underlaget for å danne en tynn film. I elektronstrålevarmeapparatet plasseres det oppvarmede stoffet i en vannkjølt digel, som kan unngå reaksjonen mellom fordampningsmaterialet og digelveggen og påvirke filmens kvalitet. Flere digler kan plasseres i enheten for å oppnå samtidig eller separat fordampning og avsetning av ulike stoffer. Med elektronstrålefordampning kan ethvert materiale fordampes.
Elektronstrålefordampning kan fordampe materialer med høyt smeltepunkt. Sammenlignet med generell motstandsoppvarmingsfordampning, har den høyere termisk effektivitet, høyere strålestrømtetthet og raskere fordampningshastighet. Film og film av ulike optiske materialer som ledende glass.
Karakteristisk for elektronstrålefordampning er at den ikke eller sjelden vil dekke de to sidene av målets tredimensjonale struktur, og vanligvis bare avsettes på måloverflaten. Dette er forskjellen mellom elektronstrålefordampning og sputtering.
Elektronstrålefordampning brukes ofte innen halvlederforskning og industri. Den akselererte elektronenergien brukes til å treffe materialmålet, noe som får materialmålet til å fordampe og stige. Til slutt avsatt på målet.
Innleggstid: Des-02-2022